金ナノロッドの基板上成長によるナノギャップ電極の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS12007

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2012/06/11

タイトル(英語): Fabrication of nanogap electrodes by gold nanorod growth on substrate

著者名: 西野 聡(京都大学),菅野 公二(京都大学),武中 能子(産業技術総合研究所),平井 義和(京都大学),土屋 智由(京都大学),田畑 修(京都大学)

著者名(英語): Nishino So(Kyoto University),Sugano Koji(Kyoto University),Takenaka Yoshiko(The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Hirai Yoshikazu(Kyoto University),Tsuchiya Toshiyuki(Kyoto University),Tabata Osamu(Kyoto University)

キーワード: ナノギャップ|ナノロッド|分子計測

要約(日本語): 分子計測のために必要な５ nm以下のナノギャップを有するナノスケール電極構造を作製するために，化学的に金ナノロッドを基板上で成長させ，2本のロッドの接点にナノギャップを形成する手法を提案する。金ナノロッドの基板上成長特性（成長速度，アスペクト比）およびナノギャップ電極の作製・評価結果について述べる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,476 Kバイト