超並列電子線描画システムにおける電子線照射の収差を補正可能な電子源駆動回路の提案とその低消費電力化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS12019

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2012/06/12

タイトル(英語): An Electron Source Driver Circuit and Its Power Reduction for Compensation of Electron Beam Aberration of Massively Parallel Electron Beam Lithography

著者名: 綿屋 孝祐(東北大学),宮口 裕(東北大学),室山 真徳(東北大学),田中 秀治(東北大学),小島 明((株)クレステック),池上 尚克(東京農工大学),吉田 孝(東北大学),江刺 正喜(東北大学)

著者名(英語): Wataya Kosuke(Tohoku University),Miyaguchi Hiroshi(Tohoku University),Muroyama Masanori(Tohoku University),Tanaka Shuji(Tohoku University),Kojima Akira(Crestec Corp.),Ikegami Naokatsu(Tokyo University of Agriculture and Technology),Yoshida Takashi(Tohoku University),Esashi Masayoshi(Tohoku University)

キーワード: ＥＢ直接描画|電磁気学的レンズ|球面収差|収差補正|低消費電力駆動回路|EB direct drawing|Electromagnetic lens|Spherical aberration|Aberration correction|Low-power driver circuit

要約(日本語): マスクレス描画で高速描画が可能な超並列電子線描画システムにおいて、電子線照射後の電磁気学的レンズ通過時の各電子線にかかる電磁界の強さの違いにより球面収差が起き、正しい縮小描画ができないという課題がある。本研究では、この収差を補正するために、電磁界の分布の違いを考慮した電子源電圧印加方法とそのための駆動回路を提案する。さらに、駆動回路の一斉動作は大きな電力を消費するため、駆動回路の低消費電力化も検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,904 Kバイト