埋め込みSi犠牲層プロセスを用いたAuナノグレーティング光位相変調素子

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS16030

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2016/12/19

タイトル(英語): Au nano-grating optical phase modulator using embedded Si sacrificial layer process

著者名: 志村 崇(東京農工大学),岩見 健太郎(東京農工大学),梅田 倫弘(東京農工大学)

著者名(英語): Takashi Shimura(Tokyo University of Agriculture and Technology),Kentaro Iwami(Tokyo University of Agriculture and Technology),Norihiro Umeda(Tokyo University of Agriculture and Technology)

キーワード: メタサーフェス|ＭＥＭＳ|構造性複屈折|熱アクチュエータ|位相変調|ナノグレーティング|Metasurface|MEMS|Structural birefringence|Thermal actuator|Phase modulation|Nano grating

要約(日本語): AuとSiO2のバイモルフ構造で構成したナノグレーティング光位相変調素子を製作した．グレーティング構造は，石英基板に埋め込んだSi犠牲層の上に作製し，XeF2ガスエッチングでリリースした．通電加熱により構造に面外方向の変形が生じ，構造の複屈折特性が変化するため，光位相変調が可能になると期待される．製作した素子は，入射光波長700～800 nmで30～40度の光学位相差を生じた．研究会では加熱による光位相変調特性について報告する．

要約(英語): This paper reports a novel optical phase modulator that combines nanograting metasurface and MEMS bimorph actuators fabricated by using a sacrificial layer of silicon embedded in the glass substrate. The nanograting consisting of thermally-driven Au/SiO2 bimorph beams is developed that modulate birefringence at visible wavelength.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,601 Kバイト