Cu2Oナノ粒子還元によるCu微細パターンのフェムト秒レーザ直接描画

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS17001

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2017/06/29

タイトル(英語): Direct writing of Cu micropatterns using femtosecond laser reduction of Cu2O nanoparticles

著者名: 溝尻 瑞枝(名古屋大学大学院),近藤 幸成(名古屋大学大学院),櫻井 淳平(名古屋大学大学院),秦 誠一(名古屋大学大学院)

著者名(英語): Mizue Mizoshiri(Nagoya University),Yukinari Kondo(Nagoya University),Junpei Sakurai(Nagoya University),Seiichi Hata(Nagoya University)

キーワード: 微細加工|フェムト秒レーザ|還元|ナノ粒子|直接描画|金属微細パターン|microfabrication|femtosecond laser|reduction|nanoparticle|direct writing|metal micropattern

要約(日本語): 　フェムト秒レーザパルスが誘起するCu2Oナノ粒子還元を利用し，Cu微細パターンを大気中で直接描画した．ポリオール法により調製したCu2Oナノ粒子をガラス基板上に塗布し，フェムト秒レーザパルスを集光照射して描画を行った．走査速度1 um/s，パルスエネルギー0.16 nJで描画を行ったとき，線幅は0.6 umとなり，回折限界を超える高分解能の描画に成功した．本手法は，Cu細線の直接描画法として広く応用が期待できる．

要約(英語): Finer Cu micropatterns were directly written using femtosecond laser pulse-induced reduction of Cu2O nanoparticles. Focused femtosecond laser pulses were irradiated to Cu2O nanoparticles on glass substrates. A line width of the micropatterns was 0.6 ?m, that was exceeded the diffraction limit.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,470 Kバイト