微細化した薄膜MI素子の外部磁界・周波数依存性
微細化した薄膜MI素子の外部磁界・周波数依存性
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: MSS18048
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会
発行日: 2018/12/21
タイトル(英語): Frequency and field dependence of micromachined thin-film magnetoimpedance element
著者名: 菊池 弘昭(岩手大学),梅崎 泰生(岩手大学),島 拓也(岩手大学),住田 千尋(岩手大学),大江 駿(岩手大学)
著者名(英語): Hiroaki Kikuchi(Iwate University),Taisei Umezaki(Iwate University),Takuya Shima(Iwate University),Chihiro Sumida(Iwate University),Suguru Oe(Iwate University)
キーワード: 微細化|磁気インピーダンス|薄膜|micromachined|magnetoimpedance|thin-film
要約(日本語): 素子幅を狭めて、素子長を短くした小形・微細化薄膜MI素子を作製し、その外部磁界依存性、および周波数特性を系統的に検討した。100ミクロン以下に小形化した素子においても外部磁場に対するインピーダンス変化を実現し、1GHz付近において10%程度のインピーダンス変化率を得たので報告する。
要約(英語): We experimentally investigated the properties of maicromachined magnetoimpedance thin-film elements, and performed impedance changes on the elements with their length less than 100 microns and achieved more than 10% impedance ration around 1 GHz.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,336 Kバイト
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