レーザ直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS19018

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2019/07/01

タイトル(英語): Evaluation of thick-film photoresist for grayscale lithography utilizing direct laser writing

著者名: 庄子 征希(東北大学),上瀧 英郎(ハイデルベルグ・インストルメンツ),森山 雅昭(東北大学),戸津 健太郎(東北大学)

著者名(英語): Masaaki Shoji(Tohoku University),Hideo Jotaki(Heidelberg Instruments, KK),Masaaki Moriyama(Tohoku University),Kentaro Totsu(Tohoku University)

キーワード: フォトリソグラフィ|グレイスケール|レーザ描画|厚膜|フォトレジスト|３次元構造体|photolithography|grayscale|laser writer|thick film|photoresist|three-dimensional structure

要約(日本語): マイクロオプティクス分野におけるマイクロレンズアレイなどの微小3次元構造体形成のため、グレイスケールリソグラフィの活用機会が増大している。本報では、グレイスケールリソグラフィにおいて、最も需要が大きい膜厚10～20?m程度が得られる各種高粘度レジストを評価した結果を報告する。グレイスケール露光にはレーザ直接描画装置DWL2000を用いた。レジスト表面を平滑化する方法についても報告する。

要約(英語): We report evaluation of several thick-film photoresists for gray scale lithography. The targeting thickness of the photoresist is 10 to 20 ?m, which is the most popular range for micro structures. A precise direct laser writer DWL2000 is utilized for the gray scale lithography. We also introduce a method to realize smooth surface of the photoresist.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,517 Kバイト