円筒面上の厚膜レジストの低温リソグラフィとNi電鋳を用いた能動カテーテル骨格部の一括形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS20043

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2020/07/06

タイトル(英語): Batch fabrication of active catheter bias mechanism using low temperature lithography of thick-resist and Ni electro-plating on cylindrical surface

著者名: Nur Shauqil Amin bin Muhamad Sanuzi(山形大学),峯田 貴(山形大学)

著者名(英語): bin Muhamad Sanuzi Nur Shauqil Amin(Yamagata University),Takashi Mineta(Yamagata University)

キーワード: 円筒露光|厚膜レジスト|低温リソグラフィ|Ｎｉめっき|一括形成|能動カテーテル|cylindrical lithography|thick resist |low temperature lithography|Ni plating |batch fabrication|active catheter

要約(日本語): 形状記憶合金(SMA)能動カテーテルの骨格部の円筒面上への一括形成のために、1mm径の円筒面上におけるUVレーザー描画を用いた低温リソグラフィプロセスを開発し、20μm厚のネガ型SU-8とポジ型OFPRレジストの8~100μm幅のパターン形成を可能にした。レジスト型への電鋳による低応力Ni電鋳構造体とレジスト構造体を組み合わせ、能動カテーテル用のバイアスばね、電極、絶縁固定部を一括形成した。

要約(英語): For batch fabrication of skeleton structure of SMA active catheter, a low temperature lithography of 20-μm-thick SU-8 and positive resists was developed. Resist patterns of 8-100 μm in width were successfully formed using UV-laser drawing on a rod (1mm). Bias spring and mount parts with the resist and electroplated structures were batch fabricated.

原稿種別: 日本語

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