Cuパターンのフェムト秒レーザ還元描画とナノ秒レーザによる酸化膜形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS20044

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2020/07/06

タイトル(英語): Cu micropatterns fabricated using femtosecond laser-induced reduction of CuO nanoparticles and subsequent surface oxidation using nanosecond laser

著者名: 吉冨 恭平(長岡技術科学大学),中村 奨(長岡工業高等専門学校),溝尻 瑞枝(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Kyohei Yoshidomi(Nagaoka Univ. of Tech.),Susumu Nakamura(National Inst. of Tech., Nagaoka College),Mizue Mizoshiri(Nagaoka Univ. of Tech.)

キーワード: フェムト秒レーザ還元|熱還元|直接描画|表面酸化処理|Ｃｕ配線|ＣｕＯナノ粒子ペースト|Femtosecond laser-induced reduction|thermochemical reduction|direct writing|Surface oxidation treatment|Cu wiring|CuO nanoparticle paste

要約(日本語): Cuパターンのフェムト秒レーザ還元直接描画法での作製と，ナノ秒レーザ表面酸化処理を行った．CuOナノ粒子ペーストをガラス基板上へ塗布し，近赤外フェムト秒レーザパルスを集光照射すると，描画速度8 mm/s，パルスエネルギー0.69 nJで，酸化物の少ないCuパターンが描画形成された．続いてグリーンナノ秒レーザを描画速度100 mm/s，パルスエネルギー20 nJ，デフォーカス1.0 mmで照射し，表面保護用酸化物層生成を実現した．

要約(英語): We demonstrated the direct writing of Cu micropatterns using femtosecond laser-induced reduction of CuO nanoparticles and the subsequent surface oxidation using green nanosecond laser pulses. Cu micropatterns were selectively oxidized by the surface treatment for protective-surface coating of the Cu wiring.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 990 Kバイト