光ナノインプリントを用いたナノメーターパターニング技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD05020

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門　光・量子デバイス研究会

発行日: 2005/09/09

タイトル(英語): Nanometer-Patterning Technology Using Photo Nanoimprint.

著者名: 平滞玉乃 (東洋合成工業),谷口淳 (東京理科大学),川口賢士 (東京理科大学),太田口誠 (東洋合成工業),坂井信支 (東洋合成工業)

著者名(英語): Tmano Hirasawa(Toyo Gosei Co.,LTD.),Makoto Ohtaguchi(Toyo Gosei Co.,LTD.),Nobuji Sakai(Toyo Gosei Co.,LTD.),Jun Taniguchi(Tokyo University of Science),Kenshi Kawaguchi(Tokyo University of Science)

キーワード: UV-ナノインプリント|光硬化性樹脂|ガラス転移温度|モールド|付着力

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 798 Kバイト