シンクロトロン光による微細加工の現状とマイクロシステムへの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD09045

グループ名: 【C】電子･情報･システム部門　光･量子デバイス研究会

発行日: 2009/05/07

タイトル(英語): Current status of microfabrication using synchrotron radiation and its application to microsystem

著者名: 内海 裕一(兵庫県立大学)

著者名(英語): Yuichi Utsumi(University of Hyogo)

キーワード: LIGAプロセス|ディープX線リソグラフィー|放射光|MEMS|LIGA process|Deep x-ray lithography|Synchrotron Radiation|MEMS

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 663 Kバイト