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レーザ―アブレーションによるケイ素ー炭素ナノ構造の形成

レーザ―アブレーションによるケイ素ー炭素ナノ構造の形成

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD10016

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Formation of Si-C Nanostructures by Laser Ablation

著者名: 小海 文夫(三重大学),内山 訓宏(三重大学),亀田 優人(三重大学),小塩 明(三重大学)

著者名(英語): Kokai Fumio(Mie University),Uchiyama Kunihiro(Mie University),Kameda Yuto(Mie University),Koshio Akira(Mie University)

要約(日本語): ケイ素を含むグラファイトのレーザーアブレーションによりケイ素―炭素ナノ構造を形成した.ケイ素の含有量や雰囲気アルゴンガス圧に依存して,アモルファス炭化ケイ素ワイヤーおよび炭化ケイ素ナノワイヤーを含むカーボンナノチューブ,粒子状の炭化ケイ素が生成することがわかった.無触媒での一次元構造成長について議論する.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 787 Kバイト

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