でんぷん類を原料とする光ナノインプリントリソグラフィ用環境対応型レジスト材料の創成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD11004

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2011/03/04

タイトル(英語): Development of Plain-Based Resist Materials in Ultraviolet Nanoimprint Lithography

著者名: 竹井 敏(富山県立大学)

著者名(英語): TAKEI SATOSHI(Toyama Prefectural University)

キーワード: 微細加工|ナノインプリント|光硬化|レジスト|植物性樹脂|lithography|nanoimprint|UV crosslink |resist|plant-based resin

要約(日本語): 光インプリントによる微細加工は、半導体製造のみならず、記録装置、発光ダイオード、太陽電池、及びバイオセンサー等の電子デバイス製造への適用可能性が高まる重要な技術である。本研究では、植物性原料を主成分に用いる新規な光ナノインプリント用レジスト材料の開発と評価を目的とする。剛直なグルコース骨格は膜収縮率を改善し、高精度な微細加工が達成できることが分かった。更に、次世代環境対応型レジスト材料設計指針と最適な微細加工プロセスを報告する。

要約(英語): Plant-based resist materials with UV crosslink group were investigated to achieve high quality of sub-100 nm line and multiple nanoimprint lithograpic images in the optimized conditions of step and flash nanoimprint lithography processes for the industrial production of semiconductors, hard disk drive storage devices, light-emitting diodes, solar cell devices, actuators, biosensors, and micro electro mechanical systems.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 879 Kバイト