EUVリソグラフィ用LPP光源の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD11023

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2011/03/15

タイトル(英語): Development of LPP Light Source for EUV Lithography

著者名: 住谷 明(コマツ[(株)小松製作所)

著者名(英語): Sumitani Akira(Komatsu Ltd.)

キーワード: ＥＵＶ光源|レーザ生成プラズマ|ＣＯ２レーザ|錫ドロップレット|磁場プラズマ制御|EUV source|Laser Produced Plasma|CO2laser|Tin Droplet||Magnetic Plasma Guiding

要約(日本語): EUVリソグラフィの実現には、信頼性のある高出力な光源の開発が決め手となる。高出力化への要求を満たす出力の拡張性があり、量産用光源となる可能性が高いと考えられるレーザ生成プラズマ方式EUV光源（LPP光源）の研究開発状況について述べる。

要約(英語): The development of a reliable high power EUV light source is one of the major technical challenges for the implementation of EUV lithography. A review is given on the development of a laser produced plasma (LPP) light source for high volume manufacturing (HVM) EUV lithography.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 968 Kバイト