真空紫外光源の開発とマイクロ・ナノプロセシングへの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD14007

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2014/03/07

タイトル(英語): Development of VUV radiations and their application for micro- and nano-processings

著者名: 甲藤 正人(宮崎大学),加来 昌典(宮崎大学),横谷 篤至(宮崎大学),窪寺 昌一(宮崎大学),佐々木 亘(（株）NTP)

著者名(英語): Masahito Katto(University of Miyazaki),Masanori Kaku(University of Miyazaki),Atsushi Yokotani(University of Miyazaki),Shoichi Kubodera(University of Miyazaki),Wataru Sasaki(NTP Inc.)

キーワード: 真空紫外|エキシマ|レーザー|光プロセス|表面分析|vacuum ultra-violet|excimer|laser|laser processing|surface analysis

要約(日本語): 希ガスエキシマを用いた真空紫外光源の開発成果、ならびにそれらを用いた光プロセスの開発について講演する。

要約(英語): Our research results about vacuum ultra-violet radiations using rare-gas excimers and their applications will be introduced.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,686 Kバイト