PAGポリマー担持基材を用いた培養細胞単層の光切断・細分化プロセシング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD17065

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2017/09/25

タイトル(英語): Photo-induced cutting and sectioning of cell monolayer on PAG-polymer-functionalized culture substrate

著者名: 須丸 公雄(産業技術総合研究所),高木 俊之(産業技術総合研究所),森下 加奈(産業技術総合研究所),佐藤 琢(産業技術総合研究所),金森 敏幸(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Kimio Sumaru(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Toshiyuki Takagi(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Kana Morishita(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Taku Satoh(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Toshiyuki Kanamori(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: 細胞操作|光酸発生ポリマー|ヒトｉＰＳ細胞|継代操作|cell manipulation|PAG polymer|human iPS cell|passage

要約(日本語): 光酸発生剤残基を側鎖に有するポリマーを担持させた培養基材を用いて、基材に接着している細胞単層をパターン光照射によって切断する技術の開発、及びヒトiPSコロニーの純化及び継代操作への応用について報告する。

要約(英語): We developed a methodology to cut cell monolayers by using a PAG-polymer-functionalized culture substrate and micro-patterned light irradiation, and examined its application to the purification and passage of the human iPS cell culture.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,110 Kバイト