Cu2Oナノ粒子のフェムト秒レーザ還元描画における波長の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD19010

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2019/03/29

タイトル(英語): Effect of wavelength on femtosecond laser reductive patterning using Cu2O nanospheres

著者名: 溝尻 瑞枝(長岡技術科学大学),田之口 睦(長岡技術科学大学),近藤 幸成(名古屋大学)

著者名(英語): Mizue Mizoshiri(Nagaoka University of Technology),Atsushi Tanokuchi(Nagaoka University of Technlogy),Yukinari Kondo(Nagoya University)

キーワード: 微細加工|フェムト秒レーザ還元|内部描画|３次元Ｃｕ微細造形|非線形光吸収|Ｃｕ２Ｏナノ粒子|microfabrication|femtosecond laser reduction|internal writing|three-dimensional Cu microfabrication|nonlinear optical absorption|Cu2O nanospheres

要約(日本語): Cu2Oナノ粒子のフェムト秒レーザ還元描画において，レーザ波長の影響を調査した．波長780 nmと515 nmのフェムト秒レーザを用い，Cu薄膜成膜ガラス基板とガラス基板の2種類の基板上に塗布したCu2Oナノ粒子の還元描画を行った．その結果，波長515 nmを用いた場合には，ガラス基板上の方が細線描画が可能であった．一方波長780 nmの場合は逆であり，更にCu薄膜成膜ガラス基板では，基板直上の1層のCu2Oナノ粒子のみが焼結される現象を見出した．

要約(英語): Effect of the wavelength of femtosecond laser pulses on the patterning properties was investigated when Cu2O nanospheres were reduced and sintered to form micropatterns using femtosecond laser reduction. Finer line patterns of monolayered Cu2O nanospheres were formed on Cu-coated glass substrate at the wavelength of 780 nm.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 786 Kバイト