真空紫外レーザによるポリカーボネート上におけるAl薄膜パターニングの微細化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD20031

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2020/03/27

タイトル(英語): A micro patterning method of Al thin film on polycarbonate by VUV laser irradiation

著者名: 吉田 剛(防衛大学校),野尻 秀智(レニアス),大越 昌幸(防衛大学校)

著者名(英語): Tsuyoshi Yoshida(National defense academy),Hidetoshi Nojiri(RENIAS Co., LTD.),Masayuki Okoshi(National defense academy)

キーワード: 薄膜|パターニング|真空紫外レーザ|Thin film|Patterning|VUV laser

要約(日本語): 本研究室ではポリカーボネート(=PC)窓材のスマート化のために簡易な電極形成技術の開発を目指している。本実験ではシリコーン樹脂ハードコート層を持つPC基板上に真空蒸着したAl薄膜を対象とし、PC窓材の表面硬化改質にも使用するF2 レーザとKOH水溶液によるケミカルエッチングを組みあわせて、Al薄膜のパターンを作成した。発表では、本手法のパターニングのメカニズムについて微細化の可能性とともに議論する。

要約(英語): A micropatterning method of Al thin film on silicone hard-coated polycarbonate by 157 nm F2 laser irradiation will be reported. The 500 or 10 μm mesh patterned mask was placed on Al thin film on polycarbonate and irradiated by F2 laser. Then, the non laser irradiated area was removed by KOH aq etching.

原稿種別: 日本語

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