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SiC高周波誘導加熱インバータにおけるSiCMOSFETのゲート電圧変動に関する一検討
SiC高周波誘導加熱インバータにおけるSiCMOSFETのゲート電圧変動に関する一検討
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カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PE14021,PSE14021,SPC14056
グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 電力技術/【B】電力・エネルギー部門 電力系統技術/【D】産業応用部門 半導体電力変換合同研究会
発行日: 2014/03/06
タイトル(英語): A study on gate voltage fluctuation for high-frequency induction heating SiC inverter
著者名: 舟木 剛(大阪大学),宮下 善光(大阪大学)
著者名(英語): Tsuyoshi Funaki(Osaka university),Yoshimitsu Miyashita(Osaka university)
要約(日本語): ハーフブリッジ回路において、一方のパワーデバイスの高速スイッチング動作が、他方のMOSFETゲート電圧に変化を起こす。これがゲート閾値電圧まで上昇することで遮断状態にあるべきMOSFETが過渡的に導通状態となるセルフターンオン現象が知られている。本稿では、SiCMOSFET高周波誘導加熱装置において、発生するゲート電位変動について実験的に評価する。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,263 Kバイト
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