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蛍光X線膜厚計で使用するCr標準薄膜の開発

蛍光X線膜厚計で使用するCr標準薄膜の開発

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS05001

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2005/06/22

タイトル(英語): Development of Cr thin film standard for a X-ray fluorescence thickness monitor

著者名: 播磨 幸一(早稲田大学大学院情報生産システム研究科),植田 敏嗣(早稲田大学大学院情報生産システム研究科),岩崎登(株式会社電測)

著者名(英語): Koichi Harima|Toshitsugu Ueda|Noboru Iwasaki

キーワード: マイクロ加工技術|単結晶水晶|異方性エッチング|MEMS

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,089 Kバイト

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