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プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその応用
プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその応用
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カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PHS06020
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会
発行日: 2006/12/08
タイトル(英語): Surface treatments of silicon and their application by plasmaless dry etching
著者名: 斉藤洋司 (成蹊大学)
著者名(英語): Yoji Saito(Seikei University)
キーワード: 三フッ化塩素|クリーニング|反応性ガス|MEMS|ボロメータ|太陽電池|テクスチャー化
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,593 Kバイト
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