ドライプロセスによるSiマイクロチャネルプレートの開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS09020

グループ名: 【E】センサ･マイクロマシン部門　フィジカルセンサ研究会

発行日: 2009/07/23

タイトル(英語): Development of Si Microchannel Plate using Dry Process

著者名: 佐久間 啓史(埼玉大学大学院),森 涼太郎(埼玉大学大学院),高橋 幸郎(埼玉大学大学院)

著者名(英語): Keishi Sakuma(Graduate School of Science and Engineering,Saitama University),Ryotaro Mori(Graduate School of Science and Engineering,Saitama University),Khoro Takahashi(Graduate School of Science and Engineering,Saitama University)

キーワード: シリコンマイクロチャネルプレート|反応性イオンエッチング|傾斜エッチング|傾斜マイクロチャネル|Si microchannel plate|Reactive ion etching|Slanted etching|Slanted microchannel

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 804 Kバイト