半導体微細加工技術を用いた電磁環境両立性(EMC)測定用センサ
半導体微細加工技術を用いた電磁環境両立性(EMC)測定用センサ
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PHS09045
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会
発行日: 2009/12/11
タイトル(英語): Micro Sensors for Electro-Magnetic Compatibility(EMC)Measurement
著者名: 栗山 敏秀(近畿大学),青井 利一(近畿大学),前田 裕司(和歌山県工業技術センター),伊東隆喜 (和歌山県工業技術センター),上野 吉史(和歌山県工業技術センター),中家 利幸(阪和電子工業),松井 信近(阪和電子工業),奥村 浩行(阪和電子工業)
著者名(英語): Toshihide Kuriyama(Kinki University),Toshikazu Aoi(Kinki University),Hiroshi Maeda(Industrial Technology Center of Wakayama Prefecture),Takaki Itoh(Industrial Technology Center of Wakayama Prefecture),Yoshifumi Ueno(Industrial Technology Center of Wakayama Prefecture),Toshiyuki Nakaie(Hanwa Electronic Ind.Co.,Ltd.),Nobutika Matsui(Hanwa Electronic Ind.Co.,Ltd.),Hiroyuki Okumura(Hanwa Electronic Ind.Co.,Ltd.)
キーワード: 半導体微細加工|MEMS|電磁ノイズ|磁界プローブ|静電気測定|Semiconductor micro-fabrication|MEMS|Electro-magnetic noise|Magnetic probe|Electrostatic Measurement
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,151 Kバイト
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