高分子系鋳型を用いたゾルゲル法によるＰＺＴ構造体形成プロセスの開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS10016

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2010/06/17

タイトル(英語): Development of Fabricaion Process of Thick PZT Structures Using Sol-gel Method with Polymer Templates

著者名: 秋山 琴音(東北大学),石井 大佑(東北大学),川合 祐輔(東北大学),吉田 慎哉(東北大学),田中 秀治(東北大学),下村 政嗣(東北大学),江刺 正喜(東北大学)

著者名(英語): Akiyama Kotone(Tohoku University),Ishii Daisuke(Tohoku University),Kawai Yusuke(Tohoku University),Yoshida Shinya(Tohoku University),Tanaka Shuji(Tohoku University),Shimomura Masatsugu(Tohoku University),Esashi Masayoshi(Tohoku University)

キーワード: ゾルゲル法|ＰＺＴ|鋳型|厚膜|solgel method|PZT|template|thick film

要約(日本語): 本研究では、厚いＰＺＴ構造体を高分子鋳型を用いたゾルゲル法により簡便に形成することを目的としている。従来の方法ではミクロン程度の厚さのＰＺＴ膜を形成するのに40nm程度の厚さの薄膜を何度も積層するしかなく、手間・時間がかかる。本研究では多数の孔を有する高分子膜を鋳型として厚いＰＺＴ構造体を形成するプロセスを開発し、1回のプロセスで厚さ500~600 nm程度のＰＺＴ構造体が形成できたので報告する。

要約(英語): Sol-gel process is very simple which doesn’t require complicated and expensive instruments. But it is often time- and labor- consuming. In this presentation, we demonstrate a new sol-gel method for growing thick PZT structures in less repetitive processes aiming for simple and costless growth of PZT structures for practical applications.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 883 Kバイト