ポリイミドを基板としたCr-N薄膜の作製と微圧センサ応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS11003

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2011/01/13

タイトル(英語): Fabrication and low pressure sensor application of polyimide based Cr-N thin films

著者名: 丹羽 英二(電気磁気材料研究所),佐々木 祥弘(電気磁気材料研究所),荒井 賢一(電気磁気材料研究所),増本 剛(電気磁気材料研究所)

著者名(英語): Niwa Eiji(Research institute for elrctric and magnetic materials),Sasaki Yoshihiro(Research institute for elrctric and magnetic materials),Arai Kenichi(Research institute for elrctric and magnetic materials),Masumoto Katashi(Research institute for elrctric and magnetic materials)

要約(日本語): 次世代歪センサとして有望なCr-N薄膜をポリイミド基板上に形成する場合、その薄膜にクラックが発生するという問題があったが、スパッタガス圧の低減がクラック発生を抑制することを見出した。それはガス圧の低下に伴う薄膜結晶組織の緻密化に関連すると考えられる。またポリイミド基板を直接ダイアフラムとして用いる圧力センサ素子を作製して行った低圧ガス印加実験から、微小圧検知の可能性を見出した。

原稿種別: 日本語

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