ポリイミドフィルム基板上へのTiNi合金の低温成膜による形状記憶デバイスの作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS11032

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2011/12/12

タイトル(英語): Fabrication of SMA Device Using TiNi Alloy Films on Polyimide Substrate by Low-Temperature Deposition

著者名: 池永 訓昭(金沢工業大学),岸 陽一(金沢工業大学),矢島 善次郎(金沢工業大学),作道 訓之(金沢工業大学)

著者名(英語): Ikenaga Noriaki(Kanazawa Institute of Technoligy),kishi Yoichi(Kanazawa Institute of Technoligy),Yajima Zenjiro(Kanazawa Institute of Technoligy),Sakudo Noriyuki(Kanazawa Institute of Technoligy)

キーワード: ＴｉＮｉ形状記憶合金|プラズマイオン注入成膜|低温結晶化|イオン照射|組成制御|TiNi shape memory alloy|plasma based ion implamtation and deposition|low-temperature crystallization|ion irradiation|composition control

要約(日本語): スパッタリングなどにより成膜したTiNi薄膜は，形状記憶合金（SMA）として機能するためには約500℃の後熱処理を必要とする．このため従来，高分子などの基板上にSMA膜を直接in-situで合成することはできなかった．本研究では，イオン照射を用いることにより，200℃以下の低温でもSMA膜を合成できるプロセスを開発し、後熱処理なしでポリイミド基板上にTiNi合金膜を形成した形状記憶デバイスの作製に成功した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 4,252 Kバイト