ポリイミド基板上へのTiNi合金薄膜の直接合成プロセスの開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS13020

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2013/08/08

タイトル(英語): Development of Direct Synthesis Process for TiNi Alloy Films on Polyimide Substrate

著者名: 池永 訓昭(金沢工業大学),作道 訓之(金沢工業大学)

著者名(英語): Ikenaga Noriaki(Kanazawa Institute of Technology),Sakudo Noriyuki(Kanazawa Institute of Technology)

キーワード: ＴｉＮｉ形状記憶合金|イオン照射|スパッタ成膜|プラズマイオン注入成膜|低温結晶化|TiNi shape memory alloy|ion irradiation|sputtering deposition|Plasma based ion implantation and deposition|low-temperature crystallization

要約(日本語): これまでの研究で，イオン照射とスパッタリング成膜の複合プロセスによってTiNi合金薄膜を低温（200℃以下）で合成することに成功している．このとき照射イオンのエネルギー値が低温合成を可能にする重要な要因であることを明らかにしてきた．今回照射イオンエネルギーのその場測定が可能なファラデーカップを開発し，それを用いたTiNI合金薄膜の成膜プロセスを開発した．

原稿種別: 日本語

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