PZT薄膜中の微結晶形成に関する研究

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PHS17057

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 フィジカルセンサ研究会

発行日: 2017/11/17

タイトル(英語): Study on microcrystalline formation in PZT films

著者名: 斎藤 彰人(金沢工業大学大学院),池永 訓昭(金沢工業大学)

著者名(英語): Akihito Saito(Kanazawa Institute of Technology Graduate School),Noriaki Ikenaga(Kanazawa Institute of Technology)

キーワード: 圧電材料|ＰＺＴ薄膜|結晶密度|スパッタリング|Piezoelectric material|PZT film|Crystal density|Sputtering

要約(日本語): 本研究では，スパッタリング成膜を使って圧電定数に優れたPZT薄膜の作製プロセスを開発している．これまでの研究で，スパッタ成膜したPZT膜は膜中の結晶が小さく，少ないことが問題であることがわかっている．今回，TiO2をバッファ層とすることで，PZT膜中の結晶粒サイズおよび結晶形成密度の改善が見られたので報告する．

要約(英語): We develop the PZT film having excellent piezoelectric constant by using sputter deposition in this study. From our previous study, the crystal size or number in PZT films with sputter deposition were very minor compared with sintered PZT materials. In this time, we found that the crystal size and density was improved in PZT film by using TiO2 buffa layer.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 579 Kバイト