PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた参加銅成膜

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT0508

発行日: 2005/01/21

タイトル(英語): Preparation of copper oxide film using a sputter-based copper ion source in RF (13.56MHz)PBII&D

著者名: 中村 圭二 小野 浩之 行村 健 Xinxin Ma 佐々木 宗生()

著者名(英語): kenji nakamura Hiroyuki Ono Ken Yukimura Xinxin Ma Muneo sasaki()

キーワード: スパッタリング|イオン源|誘導結合型RFプラズマ|プラズマイオン注入堆積

要約(英語): 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 916 Kバイト