シリコントレンチエッチングにおけるシースの役割

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT06009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2006/02/06

タイトル(英語): Role of Sheath in Silicon Trench Etching

著者名: 矢嶋 理子(富士電機デバイステクノロジー),脇本 節子(富士電機デバイステクノロジー),藤掛 伸二(富士電機デバイステクノロジー),望月邦雄市川 幸美(富士電機デバイステクノロジー),松村 昭作(武蔵工業大学)

著者名(英語): Ayako Yajima(Fuji Electric Advanced Technology Co.Ltd.,),Setsuko Wakimoto(Fuji Electric Advanced Technology Co.Ltd.,),Shinji Fujikake(Fuji Electric Advanced Technology Co.Ltd.,),Yukimi Ichikawa(Fuji Electric Device Technology Co.Ltd.,),Shosaku Matsumura(Musashi Institute of Technology)

キーワード: エッチングレート|ラングミュアプロ＾ブ計測|放電パワー|開口率

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 914 Kバイト