レーザーアシストを用いたEUV光源の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT07043

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2007/11/26

タイトル(英語): Development of Discharge EUV Light Source Assisted by Laser

著者名: 山田 淳三郎(東京工業大学),岸 望(東京工業大学),渡辺 正人(東京工業大学),沖野 晃俊(東京工業大学),河村 徹(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Junzaburo Yamada(Tokyo Institute of Technology),Nozomu Kishi(Tokyo Institute of Technology),Masato Watanabe(Tokyo Institute of Technology),Akitoshi Okino(Tokyo Institute of Technology),Tohru Kawamura(Tokyo Institute of Technology),Kazuhiko Horioka(Tokyo Institute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: EUV|　リソグラフィ|放電|すず

要約(日本語): 極端紫外線(EUV)リソグラフィは32nmの技術ノードのための最も有望な技術である。 しかしながら、光学構成と放射源の開発などEUVリソグラフィを実現するために多くの問題がある。そこで我々はレーザトリガ型放電電極を開発し、実験による検証を行った。

要約(英語): Extreme-ultraviolet (EUV) lithography is most promising technology for 32 nm technology node. There are many issues for realizing EUV lithography, such as development of optical components and radiation sources. In present study, we are using tin that is

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 426 Kバイト