磁場ガイド放電プラズマを用いた長パルスEUV光源

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT07045

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2007/11/26

タイトル(英語): Long Pulse EUV Source using Discharge Produced Plasma guided by a Magenetic Field

著者名: 寺田 健(東京工業大学),中島 充夫(東京工業大学),河村 徹(東京工業大学),細貝 知直(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学)

著者名(英語): Terada Takeshi(Tokyo Institute of Technology),Nakajima Mitsuo(Tokyo Institute of Technology),Kawamura Tohru(Tokyo Institute of Technology),Hosokai Tomonao(Tokyo Institute of Technology),Hotta Eiki(Tokyo Institute of Technology),Horioka Kazuhiko(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 極端紫外光|カスプ磁場|放電生成プラズマ|キャピラリー放電

要約(日本語): 極端紫外光源の高効率化のため、放電生成プラズマに対する電流波形、電流分布の効果を調べた。電流波形の制御としてダブルパルス放電、電流分布の制御としてテーパー型キャピラリーを用いた放電を行い、EUVパルスの持続時間が延長したことを確認した。また、テーパー型キャピラリー内でのプラズマの挙動を観測した。さらに高効率化を目指すため、カスプ磁場を用いる方法を提案した。

要約(英語): To generate an e?cient extreme-ultraviolet (EUV) plasma source, e?ects of current pro?les on the plasma behavior are experimentally investigated. Results obtained by a two-step current discharge and discharge using a tapered capillary show that the pinchi

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 464 Kバイト