レーザーアシスト放電による高出力EUV光源の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT07046

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2007/11/26

タイトル(英語): Development of EUV Light Source driven by Laser Assisted Discharges.

著者名: 細貝 知直(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学),横山 拓馬(極端紫外線露光システム開発機構),佐藤 弘人(極端紫外線露光システム開発機構),アレクセイ ジドコフ(電力中央研究所)

著者名(英語): Tomonao Hosokai(Tokyo Institute of Technology),Kazuhiko Horioka(Tokyo Institute of Technology),Takuma Yokoyama(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA)),Hiroto Sato(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA)),Alexei Zhidkov(Central Research Institute of Electric Power Industry)

キーワード: 極端紫外線|リソグラフィー|放電プラズマ|レーザーアブレーション|Zピンチ|准定常光源|燃料入射

要約(日本語): レーザー照射燃料外部入射供給方式(のEUV光源では、固体へのレーザー照射で燃料蒸気を生成し、続いてその蒸気を放電空間に入射し?数μ秒のロングパルス電流でプラズマ加熱を行う。放電プラズマはダイナミックに圧縮加熱されるピンチプラズマとは異なり準定常的な加熱プロセスでのEUV放射が期待される。実験ではスズとリチウムを燃料標的とし、13.5nm付近のEUV放射を?4μ秒にわたって維持できた。実験で示されたEUVへのエネルギー変換効率（EUVの出力エネルギー／プラズマへの入力エネルギー）は最大で?１％を超えた。実験

要約(英語): The Tin and lithium vapor discharges with laser-ablation injection are experimentally studied as a possibly efficient high power light source of quasi-continuous emission of extreme ultraviolet at wavelength of 13.5 nm for the EUV lithography. It is shown

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 418 Kバイト