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低圧高密度プラズマを用いたダイヤモンド薄膜形成の低圧限界

低圧高密度プラズマを用いたダイヤモンド薄膜形成の低圧限界

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT08008

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2008/01/26

タイトル(英語): On a low-pressure limit of diamond chemical vapor deposition in a low-pressure high-density plasma

著者名: 堤井君元 (九州大学)

著者名(英語): Kungen Teii(Kyushu University)

キーワード: ダイヤモンド|プラズマCVD|ラジカル|プラズマ診断|diamond|plasma CVD|radical|plasma diagnostics

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 739 Kバイト

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