フッ素含有プラズマを用いた極低イオンエネルギー照射下におけるcBN薄膜形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT08009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2008/01/26

タイトル(英語): Deposition of cBN thin films under ultra-low energy ion impact by using a fluorine-containing plasma

著者名: 堤井君元 (九州大学),松本 精一郎(物質・材料研究機構)

著者名(英語): Kungen Teii(Kyushu University),Seiichiro Matsumoto(National Institute for Materials Science)

キーワード: 窒化ホウ素|プラズマCVD|イオンエネルギー|イオンフラックス|boron nitride|plasma CVD|ion energy|ion flux

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 383 Kバイト