プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT09035

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　パルスパワー研究会

発行日: 2009/08/06

タイトル(英語): Study on the environment-friendly plasma cleaning method for contaminated process chamber wall

著者名: 根本 翔(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学)

著者名(英語): Sho Nemoto(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University)

キーワード: 正プラズマバイアス法|チャンバークリーニング|イオンスパッタリング|環境保護|Positive plasma bias method|chamber cleaning|ion sputtering|environmental protection

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 759 Kバイト