高密度パルスプラズマ生成用高電圧?大電流パルス電源の開発
高密度パルスプラズマ生成用高電圧?大電流パルス電源の開発
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PPT09071
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会
発行日: 2009/08/08
タイトル(英語): Development of high voltage large current pulse power supply for high energy density pulse plasma generation
著者名: 横田 達也(平和電源),坂本 哲也(平和電源),林 剛(平和電源),豊田 光廣(平和電源),坪井 仁美(ナノテック),平塚 傑工(ナノテック),中森 秀樹(ナノテック),行村 健(同志社大学)
著者名(英語): Tatsuya Yokota(Heiwa Dengen corporation),Tetsuya Sakamoto(Heiwa Dengen corporation),Tsuyoshi Hayashi(Heiwa Dengen corporation),Mitsuhiro Toyota(Heiwa Dengen corporation),Hitomi Tsuboi(Nanotec corporation),Masanori Hiratsuka(Nanotec corporation),Hideki Nakamori(Nanotec corporation),Ken Yukimura(Doshisya University)
キーワード: 大電力パルス電源|高密度パルスプラズマ|大電力パルススパッタ|High-power pulse power supply|High energy density plasma|High-power pulse sputtering
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 730 Kバイト
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