放電プラズマEUV光源の繰返しに関する実験的考察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10003

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/01/07

タイトル(英語): Limitation of the repetition frequency of discharge based EUV sources

著者名: 安井 大貴(熊本大学),渡辺 哲也(熊本大学),勝木 淳(熊本大学),佐久川 貴志(熊本大学),秋山 秀典(熊本大学)

著者名(英語): YASUI DAIKI(KUMAMOTO UNIVERSITY),WATANABE TETSUYA(KUMAMOTO UNIVERSITY),KATSUKI SUNAO(KUMAMOTO UNIVERSITY),SAKUGAWA TAKASHI(KUMAMOTO UNIVERSITY),AKIYAMA HIDENORI(KUMAMOTO UNIVERSITY)

キーワード: 極端紫外線|ピンチ放電プラズマ|高繰り返し|放電生成物|レーザー誘起蛍光法|絶縁回復|EUV|pinched plasma|highly repetitive operation|discharge products|LIF|insulation recovery

要約(日本語): 次世代の半導体露光用光源として波長13.5 nmの高出力極端紫外線（Extreme ultraviolet；EUV）光源の開発が熾烈に進められている。EUVを発するパルス放電の高繰返し化は、EUV光の高出力化のためには避けられない技術である。また、ウェハ上へのフォトンドーズ量均質化のためにも有利である。放電を高繰返し生成するための課題は、放電を駆動するパルスパワー電源と放電生成ガスのクリアランスである。本研究では、放電によって生成されるSnガスの振舞いをレーザー誘起蛍光法（LIF）で調べ、また、放電電極間の絶縁回復を調べた。

要約(英語): We will report the behavior of discharge products including tin vapor and droplets after the tin electrode Z-pinch discharge. The insulation recovery between the electrodes limits the maximum repetition frequency of the plasma production for EUV source.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,078 Kバイト