ハイパワーパルススパッタ（ＨＰＰＳ）グロー放電とパルスＲＦ誘導プラズマ結合プラズマの電気的相互作用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10020

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/02/23

タイトル(英語): Electrical Interaction of High Power Pulse Sputter (HPPS) Glow Discharge and burst-RF ICP Discharge

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),行村 建(産業技術総合研究所),玉垣 浩(神戸製鋼所),沖本 忠雄(神戸製鋼所)

著者名(英語): Azuma Kingo(University of Hyogo),Yukumura Ken(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Tamagaki Hiroshi(KOBE STEEL LTD.),Okimoto Tadao(KOBE STEEL LTD.)

キーワード: パルス放電プラズマ|グロー放電|ペニング放電|スパッタ|プラズマイオンプロセス|イオンシース|Pulsed discharge plasma|Glow discharge|Penning discharge|Sputter|Plasma ion process|ion sheath

要約(日本語): ＨＰＰＳ（ハイパワーパルススパッタ）グロー放電はパルス幅数十μｓの高電圧パルスで駆動するイオン化率の高い金属プラズマが発生可能なパルスプラズマ源でありＰＶＤへの応用が期待される。ＨＰＰＳプラズマは金属プラズマ源であるため、反応性スパッタリングに応用する場合ガスプラズマ源との併用が予想される。本報告ではプラズマ源同士の電気的な相互作用について述べる。

要約(英語): High power pulse sputter (HPPS) glow discharge is able to generate high-ionized metal plasma with instantaneous power consumption of several tens of kilowatts. HPPS glow plasma is generated at the narrow gap between two confrontation metal-plate cathode targets with a magnetic field perpendicular to the targets. A plasma source is compact in size (60 × 60 × 60 mm3) with a gap length of 10 mm and a magnetic field strength of 0.3 T. In this report, it is found out what kind of electrical characteristic the HPPS discharge indicates in ambient argon gas ionized by pulsed RF discharge.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 643 Kバイト