大気圧マイクロ波プラズマによるポリイミドフィルムの高速処理

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10040

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/08/05

タイトル(英語): High speed surface modification of polymide film using atmospheric pressure microwave excited plasma

著者名: 小野 茂(東京都市大学)

著者名(英語): Ono Shigeru(Tokyo City University)

キーワード: ポリイミド|酸素ラジカル|触媒プローブ|マイクロ波|大気圧プラズマ|Polyimide|Oxygen radical|Catalytic probe|Microwave|Atmospheric pressure plasma

要約(日本語): マイクロ波励起大気圧プラズマ源を制作し、その基礎特性の測定と表面改質への応用を行った。電子温度約1eV、電子密度1e15 cm-3程度のプラズマが生成された。表面改質においては、真空紫外線の照射などの方法で十分な親水性を得るには数10分の処理時間が必要であったが、この方法では約1秒の極めて短時間に処理を行うことができた。この結果は触媒プローブによるラジカル密度測定と合わせて検討された。

要約(英語): A microwave excited atmospheric pressure plasma source was set up and a surface modification of polyimide film was conducted, while considering the radical density in the plasma.The high-speed treatment to which a water contact angle falls to about 30 degrees in about 1 second after plasma irradiation was observed. The oxygen radicaldensity in this position is about 2x1016 cm-3, and quick treatment is considered for thishigh radical density.

原稿種別: 日本語

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