大気圧プラズマ円筒型リアクタによる金属細線アニーリング効果の定量化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10057

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/08/06

タイトル(英語): Quantitative analysis on thin metal wire annealing at atmospheric plasma in cylindrical reactor

著者名: 石塚 勇人(長岡技術科学大学),河合 公太郎(長岡技術科学大学),佐々木 徹(長岡技術科学大学),菊池 崇志(長岡技術科学大学),原田 信弘(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Ishizuka Hayato(Nagaoka University of Technology),Kawai Koutarou(Nagaoka University of Technology),Sasaki Toru(Nagaoka University of Technology),Kikuchi Takashi(Nagaoka University of Technology),Harada Nobuhiro(Nagaoka University of Technology)

キーワード: 大気圧プラズマ|金属細線アニーリング|表面洗浄|atmospheric discharge plasma|wire annealing|surface cleaning

要約(日本語): 金属細線の加工は、延伸、アニーリング、洗浄の工程から成り立っている。誘電体バリア放電生成プラズマを用いることで、アニーリングと洗浄を同時に行えることが明らかになっている。これまで大気圧プラズマのアニーリング過程を理解するため、コンデンサ等価回路モデルが用いられてきた。本研究では、アニーリングの最適化に向け、このモデルを用いて円筒型リアクタの静電容量を計算し、アニーリング効果との関係を明らかにする。

要約(英語): Metal thin wire processing consists of stretching, annealing and cleaning manufacturing processes. By using dielectric barrier discharge plasma, it is possible to combine the annealing and the cleaning processes. An equivalent circuit described by a capacitance was used to understand the annealing process in atmospheric pressure plasma. In this study, the capacitance of a cylindrical reactor is calculated by using this model, and the relation between the annealing effect and the capacitance investigated for optimization of annealing.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 839 Kバイト