シャンティングアークによる金属イオン含有プラズマの生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10130

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/12/18

タイトル(英語): Production of Metal Contained Plasma Using Shunting Arc Discharge

著者名: 青木 宏憲(岩手大学),高橋 和貴(岩手大学),高木 浩一(岩手大学)

著者名(英語): AOKI HIRONORI(Iwate University),TAKAHASHI KAZUNORI(Iwate University),TAKAKI KOICHI(Iwate University)

キーワード: シャンティングアーク|ダブルプローブ|電子密度|shunting arc|double probe|electron density

要約(日本語): シャンティングアーク放電とは金属および固体プラズマ発生方式の一つであり，固体及び金属材料のプラズマが生成可能なイオン発生方式である。これは，固体材料の加熱により固体材料表面から放出された熱電子や原子がプラズマ発生に寄与する方式である。本論文はシャンティングアークを用いて金属プラズマを生成し、プローブ計測により電子密度を測定した。

原稿種別: 日本語

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