大電力パルスマグネトロンスパッタによる高密度メタルプラズマの生成と空間分布

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT10148

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2010/12/18

タイトル(英語): Spatial distribution of high-density metal plasmas generated with a high-power pulsed magnetron sputtering

著者名: 根本 翔(茨城大学),安藤 龍哉(茨城大学),深澤 孝嘉(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Sho Nemoto(Ibaraki University),Tatsuya Ando(Ibaraki University),Takayoshi Fukasawa(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: スパッタリング|大電力パルス放電|高密度メタルプラズマ|スパッタ成膜|sputtering|high-power pulsed discharge|high-density metal plasma|sputter deposition

要約(日本語): 従来のＤＣや高周波のスパッタでは、スパッタ粒子の９０％以上が中性原子であり粒子のエネルギーや膜質の制御が困難である。そこで、大電力パルスを用いて高密度プラズマを形成してスパッタ粒子のイオン化率を上げ、イオンエネルギーの制御により膜質を制御する方法が注目されている。本研究では、光学発光分光やプラズマ諸量の空間分布測定により、スパッタプラズマの性質について大電力パルススパッタ法とＤＣ法で比較を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 771 Kバイト