低圧プラズマプロセスによる細菌細胞の分解と細菌細胞を用いた半導体のドライエッチング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11073

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/15

タイトル(英語): Degradation of bacterial cells by low-pressure plasma and dry etching process of semiconductor using bacterial cells

著者名: 松谷 晃宏(東京工業大学),髙田 綾子(東京工業大学)

著者名(英語): Matsutani Akihiro(Tokyo Institute of Technology),Takada Ayako(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: プラズマ|大腸菌|エッチング|半導体|plasma|Escherichia coli|etching|semiconductor

要約(日本語): 半導体プロセスで用いられる低圧プラズマによる細菌の分解のメカニズムについてイオンとラジカルを分離して比較実験を行った結果について報告する。また，塩素プラズマを用いて大腸菌をマスクとして半導体材料をエッチングした大腸菌のエッチングマスク機能についても報告する。この結果は，前処理の最適化等により，大腸菌の構成成分をエッチングマスク材料として利用できる可能性を示唆しているものと考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,353 Kバイト