大面積・低温・低圧表面波プラズマCVDを用いたグラフェン透明導電膜の合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11079

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/15

タイトル(英語): Large-area and low-temperature synthesis of graphene-based transparent conductive films using low-pressure surface wave plasma chemical vapor deposition

著者名: 金 載浩(産業技術総合研究所),石原 正統(産業技術総合研究所),山田 貴壽(産業技術総合研究所),津川 和夫(産業技術総合研究所),古賀 義紀(産業技術総合研究所),長谷川 雅考(産業技術総合研究所),飯島 澄男(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Kim Jaeho(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Ishihara Masatou(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),yamada takatoshi(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Tsugawa Kazuo(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Koga Yoshinori(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Hasegawa Masataka(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Iijima Sumio(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: 表面波プラズマ|マイクロ波プラズマ|ＣＶＤ|グラフェン|透明導電膜|surface wave plasma|microwave plasma|CVD|graphene|transparent conductive film

要約(日本語): グラフェン膜は高い光透過率と電気伝導性のため，透明導電膜として様々な利用が検討されている。最近，熱 CVDによる大面積グラフェン膜の合成法（合成温度：約1000 ℃）が米国、韓国のグループによって開発された。しかし，工業的大量生産を可能にするためには低温合成技術が不可欠である。本研究では、低圧表面波プラズマを用いて、グラフェン膜合成の低温化（300 ℃以下）かつ大面積化（A3サイズ）を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,291 Kバイト