プラズマ環境下にある窒化ガリウム膜のフォトルミネッセンス観測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11090

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/15

タイトル(英語): Photoluminescence observation of Garium Nitride thin films under plasma environment

著者名: 中村 圭二(中部大学),Chen Miao-Gen (中部大学),中野 由崇(中部大学),菅井 秀郎(中部大学)

著者名(英語): Keiji Nakamura(Chubu University),Chen Miao-Gen(Chubu University),Nakano Yoshitaka(Chubu University),Sugai Hideo(Chubu University)

キーワード: 窒化ガリウム|フォトルミネッセンス|プラズマエッチング|その場表面モニタ|Garium Nitride|photoluminescence|plasma etching|in-situ surface monitoring

要約(日本語): プラズマ内に設けられた窒化ガリウム薄膜に紫外線を照射し、そのときの蛍光スペクトルを観測した。基板に高周波バイアスを印加したところ、蛍光強度はプラズマ生成時間とともにわずかながら減少した。またバイアス電圧が大きくなるにつれて、蛍光強度の減少はより顕著となり、蛍光強度の減少が顕著となるバイアス電圧のしきい値が存在することがわかった。

原稿種別: 日本語

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