ICP合成によるZnO透明導電膜の光吸収係数のプロセス条件依存性
ICP合成によるZnO透明導電膜の光吸収係数のプロセス条件依存性
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PPT11102
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会
発行日: 2011/12/16
タイトル(英語): Process condition dependence of the light absorption coefficient of ZnO transparent conductive film synthesized in the ICP
著者名: 岸田 智和(茨城大学大学院),柳澤 真也(茨城大学大学院),池畑 隆(茨城大学大学院),佐藤 直幸(茨城大学大学院)
著者名(英語): Kishida Tomokazu(Ibaraki University),Yanagisawa Shinya(Ibaraki University),Ikehata Takashi(Ibaraki University),Sato Naoyuki(Ibaraki University)
キーワード: ZnO透明導電膜|広帯域光透過率|誘導結合プラズマ|光吸収係数|組成比|配向|ZnO transparent conductive film|wide band light transmittance|ICP|light absorption coefficient|composition ratio|orientation
要約(日本語): 多接合太陽電池の透明電極を念頭において,亜鉛-酸素混合のVHF帯ICPを用いて,ZnO透明導電膜(TCF)を合成している.これまで,ノンドープ条件で波長範囲365~2400 nmで平均光透過率<ζ>=90 %,シート抵抗Rs=40 Ω/□が得られている.今回は,ZnO-TCF特性の更なる向上のため,プラズマ生成条件を変えて,プラズマパラメータと広帯域での光吸収係数の相関を観察している.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,126 Kバイト
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