Role of nitrogen in the formation of CNx films by pulsed laser deposition

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11108

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/16

タイトル(英語): Role of nitrogen in the formation of CNx films by pulsed laser deposition

著者名: 王 植平(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Zhiping Wang(University of Toyama),Ito Hiroaki(University of Toyama),Masugata Katsumi(University of Toyama)

キーワード: レーザー堆積法|窒化炭素膜|ＤＬＣ|pulsed laser deposition|CNx film|DLC

要約(日本語): 本研究では、レーザー堆積法で作製した窒化炭素膜の特性をラマン分光分析を用いて、窒素の封入ガス圧を真空から50Paまで変化させた時の窒化炭素膜の特性を調べた。真空の時は、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が成膜されていたが、窒素ガスを封入していくと、ラマンスペクトルにカーボンと窒素の三重結合（ストレッチングモード）を示す2210cm-1のピークが現れた。この結果は、DLCからCNxへの遷移を示している。これに加えて、堆積速度の窒素ガス圧依存性や硬度などの機械的な特性も詳細に測定したので、本発表にて報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 798 Kバイト