パルスストリーマの発生とOHラジカルの計測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11109

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/16

タイトル(英語): Generation of pulsed streamer discharge and measurement of OH radical

著者名: 西丸 直蔵(東京工業大学),菅野 悠(東京工業大学),渡邉 正人(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Saimaru Naozo(Tokyo Institute of Technology),Kanno Yuu(Tokyo Institute of Technology),Watanabe Masato(Tokyo Institute of Technology),Hotta Eiki(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: プラズマ|パルスパワー|ストリーマ|高電圧|plasma|pulsed power|streamer|high-voltage

要約(日本語): プラズマによる殺菌応用や燃焼支援において、その働きに活性化学種（ラジカル）、特にOHラジカルが大きく寄与していることがよく知られている。しかし、その生成機構は詳しく解明されていない。本研究では、ケーブル放電を用いることでパルス幅やパルスの立ち上がり時間を可変とするパルス回路を製作し、パルスストリーマ放電によって生成されるOHラジカルを様々な条件下において計測した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 656 Kバイト