Ar/CH4/H2変調型誘導熱プラズマによる炭素膜生成実験

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT11118

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2011/12/17

タイトル(英語): Application of Ar/CH4/H2 Modulated Thermal Plasmas to Fabrication of Carbon Films.

著者名: 藤本 健太(金沢大学),春多 洋佑(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Fujimoto Kenta(Kanazawa university),Haruta Yosuke(Kanazawa university),Tanaka Yasunori(Kanazawa university),Uesugi Yoshihiko(Kanazawa university)

要約(日本語): Ar/CH4/H2PMITPを用いたSi基板照射実験をおこない，基板上での炭素膜の高速生成を試みた。基板に生成された膜の評価は，走査型電子顕微鏡およびラマン分光にて評価した。コイル電流変調をおこなう場合，25 mm角の基板一面に結晶構造を有する炭素膜の生成が確認でき，ラマン分光測定結果からは1329 cm-1の鋭いピークが確認された。この結果より，PMITPを用いることで基板により均一な多結晶ダイヤモンド膜の生成が期待できる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 5,310 Kバイト