RFマグネトロンスパッタリングにより合成したPVDF薄膜の評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT16055

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2016/10/20

タイトル(英語): Assessment of PVDF thin film prepared by RF magnetron sputtering

著者名: 高田 祐輔(佐賀大学),菅原 光星(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学)

著者名(英語): YUSUKE TAKADA(Saga University),KOUSEI SUGAWARA(Saga University),YASUNORI OHTSU(Saga University)

キーワード: プラズマ|薄膜|スパッタリング|撥水|表面加工|ポリカーボネート|Plasma|Thin film|Sputtering|Hydrophobic|Surface treatment|Polycarbonate

要約(日本語): ターゲット材としてフッ素樹脂のポリフッ化ビニリデン（PVDF）を用い、アルゴンガスでRFマグネトロンスパッタリングにより薄膜合成を行った。薄膜合成における様々なパラメータ（例えば注入電力とガス圧力など）を変えて水滴接触角、原子間力顕微鏡およびX線光電子分光により評価した。パラメータの変化、特にガス圧力に応じて、異なる形態および化学組成を得た。これらの薄膜は、40.9~105.2°の水滴接触角を有していた。

要約(英語): Using a Polyvinylidene fluoride (PVDF) as a target, thin films were prepared by RF magnetron sputtering in Argon. PVDF thin-film was assessed by Water-Contact-Angle, AFM and XPS at various parameters. The morphology and chemical composition in thin film depended on gas pressure especially. These films possessed WCA of 40.9 ~ 105.2 °.

原稿種別: 日本語

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